微波設備操作過(guò)程中的均勻加熱

微波設備操作過(guò)程中的均勻加熱

    達到均勻加熱的方法很多，總括起來(lái)也 有二類(lèi):“類(lèi)是改變加熱箱內電磁場(chǎng)的分布，即改變加熱器 內的模式分布，也即改變箱內的熱點(diǎn)和冷點(diǎn)的分布〔必要條 件是加熱箱要設計的能容納較多的模式〉，諸如加攪拌器、激 勵棒、調配器和改變箱體尺寸《如移動(dòng)箱底、箱壁）等；另一類(lèi)是移動(dòng)被加熱物體在箱內的位置，像采用傳送帶，托盤(pán) 移動(dòng)、旋轉，攪拌加熱器內加熱物等。

在連續加工過(guò)程中常采用傳送帶形式。對均勻加熱來(lái)說(shuō)， 傳送帶寬度越窄越好、如果太寬（比如接近加熱箱寬度）的 話(huà)，則可能在寬的方向上加熱不均勻4但傳送帶窄了，承載 的物體數量就少〈物體在傳送帶上的厚度受箱體進(jìn)出口開(kāi)口 高度的限制，開(kāi)口高度又受泄漏指標的限制〉，一般折中考慮 傳送帶寬度取箱體寬度的一半左右。

如果傳送帶取一層，則垂直方向的熱點(diǎn)就可能得不到很 好的利用。因此，也有在箱體內傳送帶是立體分布的設備，上、 中、下三條傳送帶來(lái)園移動(dòng)'，三條帶在水平方向各差開(kāi)1定 距離，這樣就能較好地得到均勻加熱，見(jiàn)圖2-6。要使熱點(diǎn)大 部分投入到傳送帶。還要使用調配器。

如果多臺微波源聯(lián)合使用，那么傳送帶的寬度應接近加 熱箱寬度。要使加熱物較均勻地得到加熱，在操作中，可將 各臺微波源分別使用調配器，將熱點(diǎn)沿水平方向故次調偏一

定距離來(lái)解決此問(wèn)題。

被加熱介質(zhì)的體積如果占了加熱箱容積的大部分（重負 載〕，則不用調配器就可達到較小的駐波比，這時(shí)可用攪拌器 來(lái)反復改變熱點(diǎn)和冷點(diǎn)，從而得到均勻加熱。

 在設備運行中，如能實(shí)現被加熱介質(zhì)的性質(zhì)、溫度、水 分含量等指標和微波功率、送料速度等操作參數自動(dòng)調節，將 會(huì )使加工水平有很大的提高。